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【ICP-MSユーザー必見!】業界最高純度を達成した ”ピューリックωⅡ” とは

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【ICP-MSユーザー必見!】業界最高純度を達成した ”ピューリックωⅡ” とは

【ICP-MSユーザー必見!】業界最高純度を達成した ”ピューリックωⅡ” とは

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化学分析に用いる水は一切の不純物を含まない超純水である必要があります。中でも、ICP-MSのような高感度分析における超純水への要求は最も厳しく、コンタミネーション(外部からの不純物混入)にも細心の注意を払わなければなりません。

今回は、そんな水質要求が厳しいICP-MSなどの微量元素分析に最適な超純水を製造する「ピューリックωⅡ(オメガツー)」について徹底解説します!

ピューリックωⅡとは

ピューリックωⅡは当社が設計から開発・製造まで国内で行っている、水質・機能ともの最高グレードの超純水装置です。

この「オメガ」という名前には「究極の」という意味が込められており、その名の通り「極限まで水の不純物を取り除く」ことができるため、ICP-MSなど微量元素分析に適した超純水を提供します。

 

◇2010年より販売を開始しましたピューリックωシリーズをリニューアルし、現在は「ピューリックωⅡ」を販売中!処理水質は従来品よりも一桁低い値を達成し、当社ラボ装置史上、最高純度の水を製造することができます。

驚きの実力値!

一番左の列がピューリックωⅡの処理水水質、真ん中の列がリニューアル前の従来品、そして右の列には参考に他社の同等品のデータです。

重金属イオンとホウ素は従来品より一桁低い、10分の1の水質を達成し、シリカは従来品の半分である50ppt以下を達成しました。ホウ素はクリーンルームの空気清浄に用いるHEPAフィルタから放出されることが知られており、分析用水や試薬に混入しやすいことから微量域での測定が難しい元素のひとつとされていますが、≦1ppt(従来品の10分の1)を達成しました。

その他にも水中の微粒子、メタル、シリカについても、ラボラトリ市場における最高水準の水質を達成しました。微粒子の≦1個/mlは半導体関連メーカーにおける製造用水の要求値であり、ピューリックωⅡの製造する水の純度の高さが分かります。

向上した4つのユーザビリティ

リニューアル前の従来品をお使いのお客様から実際の声を収集し、よりユーザーに寄り添ったデザイン、設置環境にマッチした設計をしました。

 

 

①オートサンプラー直結リンスポート

最先端の極微量分析では、サンプル希釈からライン洗浄まですべて自動で行うオートサンプラーの使用が主流です。オートサンプラーを用いることで大量のサンプル分析が可能になり、手作業による人為的ミスを排除できるためです。本製品はAgilent社やESI社のオートサンプラーと直結できるため、空気に触れることなく超純水を分析装置に導入でき、汚染原因のひとつである空気や実験器具からのコンタミネーションリスクを低減します。

フレッシュな超純水で洗浄することは次のメリットがあります。

①サンプルメモリー、キャリーオーバーが減る

②洗浄水の室内環境からなどの不要なコンタミネーションが減る

③I-ASの場合はリンスボトルの取り替えが不要

 

②フットコントローラー

足で採水・採水停止を操作できるフットコントローラーは、作業中の手を止めることなく超純水を採水することができ、手からのコンタミネーションリスクを防止します。採水スピードはフットコントローラーを踏む強さで調節ができ、自動車のアクセルを踏む感覚で操作できます。

例えば、小瓶に採水するときは流量を絞ったり、ポリタンクに大量に採水したい時は最大流量で採水いただけます。

 

③警報ガイダンス

警報発生時は操作画面に二次元コードが表示され、対処ガイダンスが参照できます。つい警報が発報されると焦ってしまいがちですが、イラスト付きで対処手順が表示されるためユーザーの不安を取り除きます。軽微な警報はユーザー自身で解決できるため、トラブルを早期解決いただくことができます。

 

④チューブスタンド

半導体関連の分析業務では酸系薬品を使う機会が多く、超純水を採水するクリーンドラフト内は酸雰囲気になりがちであるため、錆びる心配のない金属フリーの部材でユースポイントであるチューブスタンドを制作しました。チューブスタンドのシャフトの高さは3段階で調整でき、差し込み穴に切り欠き加工を施したことで角度の調節もできます。使用環境や採水容器の大きさに左右されず、あらゆる現場で快適に使用できます。

まとめ

いかがでしたか?今回は、水質・機能ともの最高グレードの超純水装置「ピューリックωⅡ」についてご紹介しました。

詳しくはこちらでもご紹介しておりますので、ぜひご覧ください。みなさまからのお問い合わせをお待ちしております。

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